탄탈룸 컬럼

탄탈럼 컬럼 mersen

탄탈룸은 오늘날 흔히 사용되는 가장 부식 저항성이 높은 금속입니다. 탄탈룸은 거의 모든 유기 및 무기 화합물에 대해 불활성입니다. 이 반응성 금속은 150°C 미만의 황산과 염산에 대해 불활성입니다. 탄탈룸은 열전도성과 내식성이 우수하며 성형이 쉽습니다. 탄탈룸은 높은 작업성과 용접성을 갖추어 압력용기, 컬럼 또는 반응로와 같은 다양한 장치제작을 위한 완벽한 재료입니다.

Contact In

탄탈룸 컬럼 설계

1988년 Cometec은 가장 부식성이 높은 화학 분야를 위한 탄탈룸 공정 설계 및 제조를 위해 설립되었습니다. 1998년 Cometec은 Mersen에 의해 인수되었으며 2010년 사명을 Mersen Linsengericht "탄탈룸의 고향"으로 바꾸었습니다

탄탈룸 컬럼은 화학, 석유화학, 석유 및 가스, 기타 혹독한 산업제조 환경에 적용될 것입니다. 이러한 화학물질은 자주 가열되어 매우 높은 온도에 이르므로 제작재질은 내식성을 갖춰야 합니다.

부식 저항이 중요한 고려사항이며 긴 수명과 신뢰성이 필요한 경우에는 탄탈룸 컬럼을 고려해야 합니다.

DIP PIPE나 컬럼 내부 구성품등의 부속품 역시 탄탈룸으로 제조할 수 있습니다.

저희 3200m2 규모의 작업장을 통해 매우 큰 탄탈룸 장치를 생산할 수 있습니다 (최대 너비 4.4 미터, 최고 높이 4.2 미터, 최대 중량 20 톤).

Mersen은 루즈 라인 및 Explosion-Cladding 탄탈룸 컬럼을 제공합니다.

 

tantalum-column-mersen

 

Mersen Linsengericht는 이소시아네이트, 염화 플라스틱, 에피클로로히드린, 제약, 정밀 화학, 습식 제련, 농화합물 등을 생산하는 전세계 고객들을 위해 수백 대의 탄탈룸 공정 장치를 공급해왔습니다.

 

탄탈룸 DIP Pipes

Dip pipe는 컬럼 내부에 사용되어 다음 역할을 합니다:

  • 반응로 내에 주입 레벨 아래로 액체를 주입합니다.
  • 주로 교반기 근처에서 빠른 기체 확산을 위해 반응로에 기체를 주입 레벨 아래로 주입합니다. 이러한 Dip pipe는 빠른 확산을 위한 최적의 주입 지점으로 굴혀질 수 있습니다.
  • 짧은 Dip pipe를 통해 액체나 기체를 주입 레벨 위에서 반응로에 주입하는 한편 유체가 노즐 벽에 접촉하지 않도록 합니다.
  • 흐름을 벽으로 유도하고 표면에서 튀는 현상을 방지하기 위해 굽은 Dip pipe를 통해 주입 레벨 위에서 반응로에 액체를 주입합니다.
  • 안전을 위해 배출구 노즐 설치를 하지 않도록 하고 용기에 과압을 가함으로써 Dip pipe를 통해 반응로를 비웁니다.